IRIS-530是维普推出的针对IC Mask双表面颗粒检测设备，系统采用上下两组光学系统与明场、暗场照明模式。可同时检测Pellicle及Glass面的颗粒及脏污检测，适用于Mask shop出货检测、FAB厂日常监控。

应用场景

为Mask shop出货检测、FAB Reticle定期监控提供高效、低成本的检测方案。

关键特性

• 同时检测玻璃面、pellicle面颗粒

• 可兼容RSP200、Nikon Case、水晶盒的开盒与自动上下板

• 基于明场+暗场的检测方式

• pellicle面、glass面、膜框内外部检测区域可灵活设置

• 缺陷位置与图形位置关系可视化展示

• 配置气浴风刀，可对表面颗粒进行清除